檢索結果：共14筆資料 檢索策略： "鄭偉鈞".ccommittee (精準) and cdept.raw="材料科學與工程系"
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本論文的研究內容可以分成三個階段來探討，第一階段是利用SLS機制直接於矽基材上成長矽奈米線，實驗採用金顆粒作為催化劑，並使用石英管爐通入氫氬混合氣後加熱至850 ℃以上來成長矽奈米線，並改變溫度與持…
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本論文之目的是在多孔矽上堆疊氧化鋅，藉由結合多孔矽與氧化鋅兩種發光材料，以研製出能發白光的機構。 多孔矽以陽極蝕刻法生成，基材為n型矽晶片，當氫氟酸濃度在12%，照度維持2.5 mW/cm2，電流密…
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本論文研究將銅材料形成多孔材質，其過程包含二部份：先將銅片加熱氧化形成氧化物奈米線，再於稀釋氫氣中加熱還原成為銅。 實驗結果顯示，將銅片於300°C、400°C及500°C分別持溫2~72小時後，銅…
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本研究使用磁控式濺鍍，利用矽油（silicone oil）作為液態基材，分別濺鍍氧化鋅和氮化鈦，於矽油中形成氧化物和氮化物的奈米顆粒，並分析材料之特性，實驗可分為三部分，第一為不添加矽油直接濺鍍氧化…
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本論文研製以具有C軸（002）擇優取向的氧化鋅為壓電材料及以多孔性二氧化矽做為基材取代現今氣隙型的薄膜體聲波振盪器，其結構分別為上電極／氧化鋅壓電薄膜／下電極／多孔性基材。多孔性基材以球磨、混粉…
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本研究使用磁控式濺鍍系統，在不需要額外的化學添加物，如化學還原劑、包覆劑、穩定劑等狀況下，利用離子溶液—1-n-butyl-3-methylimidazolium hexafluorophospha…
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本論文研究的內容主要分成三個部分。第一部份是在矽基材上製備所需的金奈米顆粒分佈，本實驗是先利用鍍金機在基材上鍍上一層金的薄膜後，再藉由控制退火的溫度、時間和金薄膜的厚度，來完成金奈米顆粒的製備。 …
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本論文使用磁控式共濺鍍系統沈積Cu-SiO2複合薄膜，並探討含量相異的銅在薄膜內的析出及薄膜電性。實驗第一部分是以鋁片為基材沈積Cu-SiO2薄膜，再以XPS量測不同濺鍍條件下，銅在Cu-SiO2薄…
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本論文研究中，主要模擬引腳架之不同形狀基材對於錫鬚晶生長之影響，同時考慮在不同操作環境條件下對於錫鬚晶生長之情形。實驗方式為將銅基材先以萬用試驗機將其彎曲90°，其後以電鍍的方式將霧錫電鍍於基材上。…
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本研究選用五種當前廣泛被使用的無鉛銲料，Sn、Sn-3.0Ag-0.5Cu、Sn-0.7Cu、Sn-58Bi、Sn-9Zn，與Au/Ni/SUS304基材於反應溫度240、255、270℃，分別進行…